NEDO公募「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業 / 先端半導体製造技術の開発」の採択について

プレスリリース詳細　https://kyodonewsprwire.jp/release/202402146546

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「Beyond 2nm及び短TAT半導体製造に向けた技術開発」の一部についてLSTCからの再委託先として本事業に参画

2024年2月14日

リオン株式会社（本社：東京都国分寺市、代表取締役社長：岩橋清勝）は、国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）が公募した「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業/先端半導体製造技術の開発」事業内の「Beyond 2nm世代向け半導体技術開発」において、技術研究組合 最先端半導体技術センター（以下、LSTC）が提案し、採択された「Beyond 2nm及び短TAT半導体製造に向けた技術開発」の一部について、LSTCからの再委託先として本事業に参画することをお知らせします。

当社の微粒子計測器は、半導体の製造工程で使用される薬液等の清浄度を管理するために使用され、高機能化が進む最先端の半導体製造現場において重要な役割を担っております。当社は本事業を通じ、次世代半導体に関連する研究開発を更に進めてまいります。

■参考情報（参画事業の詳細）

・NEDOのホームページをご参照ください。

　「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業/

　先端半導体製造技術の開発」に係る実施体制の決定について

　https://www.nedo.go.jp/koubo/IT3_100302.html

・経済産業省の資料をご参照ください。

　「ポスト５Ｇ情報通信システム基盤強化研究開発事業/

　先端半導体製造技術の開発」の採択事業テーマ概要

　https://www.meti.go.jp/policy/mono_info_service/joho/post5g/pdf/240209_theme_01.pdf

・LSTCのプレスリリースをご参照ください。

　 https://www.lstc.jp/news/LSTC_press_20240209.pdf

　　　　　　　　　　　　　　　【報道に関するお問い合わせ先】

　　　　　　　　　　　　　　　　リオン株式会社　（URL：https://www.rion.co.jp/）

　　　　　　　　　　　　　　　　　担当：IR広報課　岡部、重川

　　　　　　　　　　　　　　　　　TEL：042-359-7830